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        850nm 文章 最新資訊

        晶電研發中心發表IR 850nm高效率發光產品

        •   晶元光電研發中心(EPISTARLAB)技術團隊積極投入研發,近日成功開發并導入許多前瞻性技術,如新穎性透明導電薄膜(TCO)材料、復合式反射鏡結構、減少光線吸收之磊晶設計等。EPISTARLAB將相關技術導入后,有效地增加光子萃取效率,已大幅提升IR產品效能,創下多項新紀錄。   根據最新數據顯示(如附圖),SFPN42芯片尺寸1x1mm2,實驗室環境中在操作電流40mA下,達最高光電轉換效率75%;操作電流350mA下WPE大于70%;1A操作電流下.發光強度更是超越了1W,達輸出功率1,0
        • 關鍵字: 晶電  850nm  
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        850nm介紹

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