- 在半導體制造的高科技世界中，在納米尺度上創建復雜圖案的能力至關重要。隨著對更小、更快、更高效的電子設備的需求不斷增長，對先進光刻技術的需求也在增加。談到納米壓印光刻（NIL），這種方法承諾將詳細設計的圖案印在基板上。科技巨頭佳能最近推出了其NIL工具，但專家質疑它是否能真正挑戰極端紫外線（EUV）光刻術的主導地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個簡單的概念，盡管其執行在技術上可能具有挑戰性。該過程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡要過程如下：1. 創建一個具有納米級模式的模板。2.
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納米壓印光刻 半導體工藝制程
- 佳能于 10 月 13 日宣布，已將 FPA-1200NZ2C 商業化，這是一種納米壓印半導體制造系統，利用納米壓印光刻（NIL）技術實現尖端半導體電路的形成，并于當天開始接受訂單。納米壓印半導體制造設備「FPA-1200NZ2C」傳統的投影曝光設備（例如 ArF 和 EUV）通過用穿過圖案掩模的光照射晶圓上的抗蝕劑來形成電路圖案，但使用 NIL 時，電路被印刷在掩模（模板）本身上。通過形成不規則形狀并將它們像郵票一樣壓在抗蝕劑上。通過從母版創建副本，可以多次使用掩碼，這具有降低設備成本的優點。該公司的
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佳能 納米壓印光刻
納米壓印光刻介紹
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