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        紫外線工藝 文章 最新資訊

        DELO推出用于扇出型晶圓級封裝的紫外線工藝

        • DELO 為扇出型晶圓級封裝 (FOWLP) 開發了一項新工藝。可行性研究表明,使用紫外線固化模塑材料代替熱固化材料,可顯著減少翹曲和芯片偏移。此外,這還能縮短固化時間,最大限度地降低能耗。扇出型晶圓級封裝將眾多芯片封裝在一個載體上,是半導體行業一種成本效益較高的方法。但這種工藝的典型副作用是翹曲和芯片偏移。盡管晶圓級和面板級的扇出型技術不斷精進,但這些與模塑成型相關的問題依然存在。翹曲是由于液態壓縮模塑化合物 (LCM) 在模塑后的固化和冷卻期間發生化學收縮而造成的。造成翹曲的第二個原因是硅芯片、成型材
        • 關鍵字: DELO  扇出型  晶圓級封裝  紫外線工藝  
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        紫外線工藝介紹

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