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        等離子體強化化學氣相沉積系統 文章 最新資訊

        應用材料公司推出等離子體強化化學氣相沉積系統

        •   近日,應用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等離子體強化化學氣相沉積) 系統,它能實現在45納米及更小技術節點的器件上生產速度更快的晶體管所需要達到的應力水平,是應力工程技術(Strained engineering technology) 的一個巨大進步。該系統結合應用材料的Nanocure™ UV(紫外線)處理技術以及改進型氮化物沉積反應腔,把薄膜張力提高了超過30%,達到了業界領先的1.7GPa等級,并可擴展至超過2.
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        等離子體強化化學氣相沉積系統介紹

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