- 摘要：熟悉微電子工藝設備的人都知道，射頻源(RFGENERATER)是半導體工藝不可缺少的設備，其主要應用于等離子體干法刻蝕設備。 熟悉微電子工藝設備的人都知道，射頻源(RFGENERATER)是半導體工藝不可缺少的設備，其主要應用于等離子體干法刻蝕設備。其原理是刻蝕氣體(主要是F基和C1基的氣體)通過氣體流量控制系統通入反應腔室，在高頻電場(頻率通常為13.56MHz)作用下產生輝光放電，使氣體分子或原子發生電離，形成等離子體(Plasma)。等離子體是包含足夠多的正負電荷數目近于相等的帶電粒子的
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射頻源
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