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        外延生長(zhǎng) 文章 最新資訊

        信越化學(xué)為氮化鎵外延生長(zhǎng)帶來(lái)了有力輔助

        • 第三代半導(dǎo)體材料氮化鎵,傳來(lái)新消息:日本半導(dǎo)體材料大廠信越化學(xué)為氮化鎵外延生長(zhǎng)帶來(lái)了有力輔助。2024年9月3日,信越化學(xué)宣布研制出一種用于GaN(氮化鎵)外延生長(zhǎng)的300毫米(12英寸)QSTTM襯底,并于近日開(kāi)始供應(yīng)樣品。圖片來(lái)源:信越化學(xué)從氮化鎵生產(chǎn)上看,盡管GaN器件制造商可以使用現(xiàn)有的Si生產(chǎn)線來(lái)生產(chǎn)GaN,但由于缺乏適合GaN生長(zhǎng)的大直徑基板,因此無(wú)法從增加材料直徑中獲益。上述的300毫米QST基板具有與GaN相同的熱膨脹系數(shù),可實(shí)現(xiàn)大直徑的高質(zhì)量厚GaN外延生長(zhǎng),并抑制SEMI標(biāo)準(zhǔn)厚度的QS
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        外延生長(zhǎng)介紹

        外延生長(zhǎng)  外延生長(zhǎng)【epitaxial growth】【】 在單晶襯底(基片)上生長(zhǎng)一層有一定要求的、與襯底晶向相同的單晶層的方法。外延生長(zhǎng)技術(shù)發(fā)展于20世紀(jì)50年代末60年代初,為了制造高頻大功率器件,需要減小集電極串聯(lián)電阻。生長(zhǎng)外延層有多種方法,但采用最多的是氣相外延工藝,常使用高頻感應(yīng)爐加熱,襯底置于包有碳化硅、玻璃態(tài)石墨或熱分解石墨的高純石墨加熱體上,然后放進(jìn)石英反應(yīng)器中,也可采用紅外輻 [ 查看詳細(xì) ]

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