- 美國應用材料(AMAT)發布了可形成適用于22nm～14nm邏輯IC的低介電率(low-k)層間絕緣膜的兩款制造裝置。分別是成膜裝置“Producer Black Diamond 3”和紫外線(UV)固化裝置“Producer Nanocure 3”。
- 關鍵字：
AMAT 固化裝置 成膜裝置
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