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        條狀過孔成大勢所趨

        • 對于28納米及以下節(jié)點,各種新的設(shè)計要求使工程師不得不調(diào)整傳統(tǒng)的數(shù)字電路板圖設(shè)計和驗證流程。尤其值得一提的是,過孔的使用受到了很大的影響。新的過孔類型已推出,雙重成像(double patterning)、FinFETS 和其它新的設(shè)計技巧的加入不僅使過孔的使用顯著增多
        • 關(guān)鍵字: 條狀過孔  雙重成像  FinFETS  矩形過孔  布局布線  
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        雙重成像介紹

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