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納米壓印光刻是否是半導體制造的未來一步？

• 在半導體制造的高科技世界中，在納米尺度上創建復雜圖案的能力至關重要。隨著對更小、更快、更高效的電子設備的需求不斷增長，對先進光刻技術的需求也在增加。談到納米壓印光刻（NIL），這種方法承諾將詳細設計的圖案印在基板上。科技巨頭佳能最近推出了其NIL工具，但專家質疑它是否能真正挑戰極端紫外線（EUV）光刻術的主導地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個簡單的概念，盡管其執行在技術上可能具有挑戰性。該過程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡要過程如下：1. 創建一個具有納米級模式的模板。2.
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