半導(dǎo)體工藝制程 文章 最新資訊

納米壓印光刻是否是半導(dǎo)體制造的未來一步？

• 在半導(dǎo)體制造的高科技世界中，在納米尺度上創(chuàng)建復(fù)雜圖案的能力至關(guān)重要。隨著對更小、更快、更高效的電子設(shè)備的需求不斷增長，對先進(jìn)光刻技術(shù)的需求也在增加。談到納米壓印光刻（NIL），這種方法承諾將詳細(xì)設(shè)計(jì)的圖案印在基板上。科技巨頭佳能最近推出了其NIL工具，但專家質(zhì)疑它是否能真正挑戰(zhàn)極端紫外線（EUV）光刻術(shù)的主導(dǎo)地位。納米壓印光刻是如何工作NIL的核心是一個簡單的概念，盡管其執(zhí)行在技術(shù)上可能具有挑戰(zhàn)性。該過程涉及使用模具或模板在基板上物理“沖壓”出圖案。簡要過程如下：1. 創(chuàng)建一個具有納米級模式的模板。2.
• 關(guān)鍵字： 納米壓印光刻  半導(dǎo)體工藝制程