- 大日本印刷與美國Molecular Imprints就在推進22nm級以后納米壓印技術實用化進程中建立戰略性合作關系達成了一致。
納米壓印技術與ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技術相比，可削減設備成本。但因其是用模板壓模后轉印電路圖形，所以量產時需要定期更換模板。因此，該公司希望成本能比模板進一步降低。
為了解決該課題，此次的合作中兩公司將共同開發在硅晶圓上轉印圖形用納米壓印模板復制技術。兩公司稱，將應用現有的光掩模制造技術，確立可高效復制及制造模板的技術。
此前，大日本印刷在納米壓
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硅晶圓 22納米 半導體內存
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