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        化學氣相沉積 文章 進入化學氣相沉積技術社區(qū)

        利用縫隙抑制型鎢填充接觸區(qū)工藝來降低良率損失

        • 在早先的技術節(jié)點中,由于器件尺寸較大,能采用成核及平整化化學氣相沉積(CVD)技術進行鎢(W)填充。如今,由于插塞處的超小開口很容易發(fā)生懸垂現(xiàn)象,因此薄膜表面均勻生長的共形階段可能在填充完成前就關閉或夾斷,從而留下孔洞。
        • 關鍵字: 化學氣相沉積  良率  化學機械拋光  
        共1條 1/1 1

        化學氣相沉積介紹

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