- 近日，應用材料公司宣布為200mm CMP（化學機械研磨）系統推出創新的Applied DuraPad CMP（化學機械研磨）拋光墊技術 。DuraPad的使用壽命比現有的研磨墊至少延長了30%，有效地增加了機臺的有效使用時間，替客戶節約了可觀的擁有成本。在DuraPad制造過程中采用先進的six-sigma 制造技術保證了研磨墊不同批次之間性能的一致性，從而確保獲得良好的CMP研磨效果。 應用材料公司全球服務部總經理兼資深副總裁Manfred
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工業控制 化學機械 研磨拋光墊技術 應用材料公司 工業控制
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