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        光掩膜檢測系統(tǒng) 文章 最新資訊

        KLA-Tencor推出業(yè)內(nèi)首套45納米光掩膜檢測系統(tǒng)TeraScanHR

        •   KLA-Tencor宣布推出 TeraScanHR 系統(tǒng) – 業(yè)內(nèi)首套新一代 45 納米生產(chǎn)級光掩膜檢測系統(tǒng)。45 納米及以上節(jié)點生產(chǎn)中缺陷尺寸小,并采用極為復(fù)雜的 OPC*,這要求檢測設(shè)備具有極高的分辨率,TeraScanHR 滿足了這一要求,同時大大改進了生產(chǎn)效率,客戶不僅可以獲得 45 納米關(guān)鍵層生產(chǎn)的最高靈敏度,而且還可降低非關(guān)鍵層和芯片生產(chǎn)的單位檢測成本。   “我們新的 TeraScanHR 系統(tǒng)為光掩膜制造商帶來了非凡的新技術(shù)和經(jīng)濟效益,可有效降低多代光掩膜生產(chǎn)的成本,其中包括異常復(fù)
        • 關(guān)鍵字: KLA-Tencor  TeraScanHR  測量  測試  光掩膜檢測系統(tǒng)  
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        光掩膜檢測系統(tǒng)介紹

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