- KLA-Tencor正式發布了業界第一套用于 post-RET（分辨率增強技術）掩膜版設計版面 (reticle design layout)檢測的完整芯片光刻制程工藝窗口(lithography process window)（允許誤差空間）檢測系統。DesignScan 能使芯片生產商減少掩膜版的設計修正次數，獲得高成品率的設計，以實現更好的參數化設計性能和快速的上市時間
- 關鍵字：
KLA-TENCOR 方案 光刻設計 檢測 其他IC 制程
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