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        業界第一個商用TMBS整流器與傳統整流器電子應用的對比(08-100)

        —— 業界第一個商用TMBS整流器與傳統整流器電子應用的對比
        作者:Max Chen、Henry Kuo、L. C. Kao 、PJ Kung Vishay臺灣有限公司通用半導體功率二極管部門研發部 時間:2009-03-05 來源:電子產品世界 收藏

         

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/92119.htm

          圖2 沿半導體漂移區的與平面肖特基器件電場曲線的比較。左側的X軸是硅表面,這里形成了肖特基勢壘

          Vishay發布的所有100 V、120 V、150 V和200 V 都采用了淺溝道(最深2.1 um)和薄氧化物厚度(最厚0.3 um),它可以大幅度縮短溝道蝕刻制造所需的處理周期時間,因此可以提高制造工藝的吞吐量。

          器件特征描述

          本部分將僅涉及100 V和200 V 的器件特征描述,但是其結論可適用于其他電壓的TMBS器件。

          40 A/100 V TMBS的特征

          與傳統60 A相比,40 A/100 V TMBS器件顯示出了改善的正向壓降性能,如圖3a和3b所示。



          圖3a和3b TMBS和傳統平面肖特基整流器的正向電壓比較

         



        關鍵詞: TMBS 整流器

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