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        NI推出首款基于PXI的源測量單元和業界最高密度的PXI開關模塊

        作者: 時間:2008-03-19 來源:電子產品世界 收藏

          美國國家儀器宣布正式發布其第一款基于PXI的源測量單元(source measure ut,SMU)和業界最高密度的PXI開關模塊。這兩款產品將PXI平臺的應用延伸至高精密度直流測試領域,如半導體參數測試及電子設備器件的驗證。工程師們可以同時使用這兩款模塊在多管腳設備上掃描電壓和電流的特征參數,相比傳統的方式,具有輕便小巧、性價比高的優點。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/80260.htm

           PXI-4130源測量單元是一款可編程、靈活、高功率且適合高精度直流測試應用的3U PXI模塊。其相互隔離的SMU通道,可提供包含4線遙感的四象限±20 V輸出。該通道在象限I和象限III中的源極功率高達40W,在象限II和象限IV中的漏極功率高達10W。 PXI-4130電源測試單元還有一個額外的電壓、電流輸出/測試通道,并在一個單槽的PXI模塊上實現了電源功能。鑒于共有5個可電流范圍提供達1 nA的測量分辨率,因此PXI-4130非常適用于需要編程實現掃描源(電壓/電流)并且測試其參數的場合,比如在高精度的測試驗證以及半導體測試領域,。

          "很高興看到模擬技術的發展和基于FPGA架構的應用可以實現在如此之小的體積上發揮出卓越的性能" NI測量技術總監Ken Reindel這樣說道。 "NI PXI-4130源測量單元是一個在高精度、高功率和小體積特性上的典范,讓工程師可以在新的應用領域享有PXI平臺帶來的種種優勢" 。

          NI PXI-2535和NI PXI-2536超高密度模塊可提供544交叉點——可在單槽、3U PXI模塊上實現最大的矩陣密度。NI PXI-2535和NI PXI-2536分別配置為4x136 1線式矩陣和8x68 1線式矩陣。兩款模塊都是建立在場效應晶體管(field effect transistor,FET)技術之上,該技術帶來諸多優勢,包括:無限機械壽命、無限同步連接以及高達50,000次/秒的切換速度。這些優勢使這兩款產品非常適合在批量生產設備(如:半導體芯片和印刷電路板)的驗證測試中來切換低功率的直流信號。兩款新產品與NI Switch Executive開關管理軟件同時使用還能幫助工程師們實現的簡化配置和代碼重用。

          NI PXI-4130電源測試單元和兩款高密度開關模塊豐富了現有的PXI儀器平臺,并可幫助工程師們進行半導體原件驗證相關測試,包括高速數字設備、混合信號儀器及射頻設備。當在一個PXI系統中同時使用這些設備,它們可以提供高度靈活的解決方案,無論是半導體結構和功能驗證測試還是電子元件特征測試。這3款產品均對NI TestStand測試管理軟件、NI LabVIEW圖形化開發環境、NI Signalexpress、NI LabWindows ™/CVI和NI Measurement Studio提供支持。



        關鍵詞: NI

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