新聞中心

        EEPW首頁 > EDA/PCB > 新品快遞 > Synopsys推出IC COMPILER 2007.03版

        Synopsys推出IC COMPILER 2007.03版

        ——
        作者: 時間:2007-04-18 來源:電子產品世界 收藏

           今天發布了下一代布局布線解決方案——IC Complier 2007.03 版。該版本運行時間更快、容量更大、多角/多模優化(MCMM)更加智能、而且具有改進的可預測性,可顯著提高設計人員的生產效率。

          同時,新版本還推出了支持正在興起的45納米技術的物理設計。目前,有近百個采用IC Compiler的客戶設計正在進行中,訂單金額超過一億美元。IC Compiler正成為越來越多市場領先的IC設計公司在各種應用和廣泛硅技術中的理想選擇。2007.03 版的重大技術創新將為加速其廣泛應用起到重要作用。

          設計產品集團高級副總裁兼總經理Antun Domic 表示:“2007.03版是至今為止IC Compiler最重要的版本,將給數量龐大的用戶群帶來前所未有的優勢。該版本提供先進的核心技術,能夠使用戶在整個板設計中獲益,同時,通過提高MCMM優化和簽核驅動時序收斂等主要功能的自動化水平,提高生產效率。”

          IC Compiler 2007.03引入了用于快速運行模式的新技術,在保證原有質量的情況下使運行時間縮短了35%。新技術將16 Gb平臺的容量增加到接近1,000萬門,有助于用戶實現更大的模塊劃分。該版增加了集成的、層次化的設計規劃的早期介入,有助于用戶高效處理一億門級的設計。提高生產能效的另一個關鍵在于物理可行性流程,它能夠使用戶迅速生成和分析多次試驗布局,以確定具體實現的最佳起始值。

          IC Compiler 2007.03為高級設計引入了自適應性MCMM優化技術,能夠在保持精度水平相同的情況下,實現更快的運行速度、更小的內存需求。IC Compiler為設計提供了多角/多模,實現了真正的并行優化,這對高級用戶而言是一種巨大的優勢。這些用戶不能承受其他布局布線工具連續優化對時序安排的影響,或接受低精度技術融合。高級設計也可受益于目前已經提供的IC Compiler簽核驅動時序收斂。

          對于新興的45納米設計,IC Compiler 2007.03可為前沿用戶提供45納米布局及布線設計規則早期支持,并滿足光刻和與化學機械拋光(CMP)有關的金屬一致性的需求。目前,正在與全球主要半導體廠商合作,為45納米設計的采用提供生產支持。與90納米和65納米設計一樣,Synopsys的物理部署解決方案率先啟動了45納米的流片。

          IC Compiler 2007.03版即將出貨。



        評論


        相關推薦

        技術專區

        關閉
        主站蜘蛛池模板: 宁城县| 诏安县| 沧州市| 海口市| 周口市| 岱山县| 中江县| 浑源县| 永定县| 贡嘎县| 陇西县| 唐山市| 根河市| 高青县| 南召县| 中方县| 安化县| 会同县| 荆门市| 清丰县| 泰宁县| 沽源县| 平顺县| 岚皋县| 益阳市| 睢宁县| 高雄市| 百色市| 连江县| 灯塔市| 乃东县| 荥阳市| 故城县| 弥勒县| 盘锦市| 卫辉市| 大新县| 定边县| 特克斯县| 静安区| 花垣县|