光學反射式分布測量技術淺析
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光學分布探測是一種適用于光纖等連續光學鏈路的特征參數測量的技術。反射式分布探測是基于測量光背向散射信號，由光傳輸特性的變化來探測、定位和測量光纖鏈路上因熔接、連接器、彎曲等造成的光學性能改變。光時域反射儀OTDR是這種技術的典型應用。OTDR可以測量整個光纖鏈路的衰減并提供與長度有關的衰減細節,測量具有非破壞性、測量過程快速方便、結果準確直觀的特點。因此在生產、研究以及通信等領域有廣泛應用。為了提高測量性能，在OTDR的基礎上提出了時域相關測量，頻域測量和干涉測量等改進的測量技術。
二、OTDR的測量原理[1]
當光束沿光纖傳播時，由于纖芯折射率的細微不均勻會不斷產生瑞利散射，部分散射光會反向回到輸入端。
測量中的反向散射光有兩種，一種是瑞利散射光，另一種是光纖斷面或光纖連接處產生的菲涅爾反射。假設入射光功率為P0，光纖中l處反向散射光傳播到入射端的功率為Ps,光纖l處的衰減系數為α(l)，則可以得到下列公式：
(1)
(2)
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