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        開關電源功率半導體器件

        作者: 時間:2012-09-09 來源:網絡 收藏

          在過去的20多年,出現了一些新半導體開關器件和模塊,在如MOS-FET,絕緣柵雙極晶體管IGBT,碳化硅(SiC)器件等領域都有 了不同程度的新進展(以下未特別注明的MOSFET、IGBT或IGCT等,均是指用硅晶片制成的)。

          1)功率MOSFET

          1979年,功率MOSFET場效應晶體管問世。由于它的輸入阻抗高、開關速度快和熱穩定性好,可以完全代替功率晶體管GTR和中小電流的晶閘管 ,使電力電子電路如實現高頻化成為可能。其電壓電流定額已經達到了500V/240 A、1500V/200 A。功率MOSFET的特點是開關損耗小, 但是通態功耗大,而且功率MOSFET的擊穿電壓UB越高,通態電阻RDS(on)越大。以理想的N溝道功率MOSFET為例,通態電阻RDS(on)和擊穿電壓UB 有如下關系:

          1989年,Infineon公司推出冷MOS管(Cco1 MCGFET),它采用了超級結(Super-Junction)結構,故又稱做超結功率MOSFET,工作電壓為600~ 800V,通態電阻幾乎降低了一個數量級,但仍保持著開關速度快的特點,是一種具有發展前途的高頻功率半導體開關器件。

          2)絕緣柵雙極晶體管IGBT

          1982年,B.J.Ba1iga將雙極晶體管和功率MOSFET技術組合在一起,成功地開發出第-個絕緣柵雙極晶體管,取名為IGT(Insulated Gate Transistor),后來國際電力電子界通稱為GBT(Insu1ated Gate Bipo1ar Transistor)。它是將MOS門極(柵極)的優良輸人特性和雙極晶體管的 良好輸出特性的功能集成在一起構成的。它的通態壓降小、電流密度大,完全可以代替功率晶體管GTR和中小電流的晶問管,成為公認的最有發 展前景的一種電力電子半導體開關器件。

          IGBT的技術進展,實際上是通態壓降、快速開關和高耐壓能力三者的折中。IGBT的門極結構有平面型和溝型兩種。隨著工藝和結構形式的不 同,在⒛多年的歷史發展進程中,開發的IGBT有以下幾種類型:穿通(PT)型、非穿通(NPT)型、軟穿通(SPT)型、溝槽型和電場截止(PS)型等。 IGBT的未來發展方向是:①逆阻型IGBT模塊、減小輸人電流畸變;②最佳模塊組合,減小通態噪聲;③控制du/dt和di/dt的能力,減少噪聲發 射。

          據報道,IGBT則出現時,電壓電流的額定值只有600V/25 A。在很長的一段時間內耐壓水平都限定在1200~1700 V,經過長時間的探索研究和 改造,現在IGBT的電壓電流的額定值已經達到3300V/1200 A、4500V/1800AL等,高壓IGBT單片耐壓甚至達到6500V。一般IGBT的工作頻率上限為 20~40 kHz。基于PT結構、應用新技術所制造的IGBT,可以工作在150kHz(硬開關)和300 kHz(軟開關)。

          3)集成門極換流晶間管IGCT

          集成門極換流晶閘管(Integrated Gate Commutation Thyristor)是1977年出現的一種新型高電壓大電流開關器件,簡稱IGCT。它利用功率 MOSFET的優點,將MOS技術與晶間管組合。它的損耗比可關斷晶閘管GTO小,接線比GTO簡單可靠,并可以采用風冷。現在已開始應用于中大型功 率的電力電子變頻調速系統,如MW級的變頻器、新型的靜止式無功功率補償裝置等。

          4500V/4000 A IGCT的參數為工作頻率1kHz,正向壓降為2.7V,di/dt=1000A/μs。

          4)碳化硅功率半導體開關器件

          碳化硅SiC(Si1icon Carbide)是功率半導體開關器件晶片的理想材料。其優點是:禁帶寬、工作溫度高(可達600℃)熱穩定性好、通態電阻小 、導熱性能好、漏電流極小、PN結耐壓高,有利于制造出耐高溫的高頻大功率半導體開關器件。

          現在已經制造出40 mm SiC晶片,1990年已有30 mm SiC晶片上市,在電力電子技術中,開始用SiC器件代替Si器件。例如,SiC肖特基二極管 已有商品問世,定額為300V、600V、1200V/20A,反向恢復時間接近于零,175℃以下SiC肖特基二極管的反向電流幾乎不變。

          據《電力電子》雜志2004年第4期報道,已經試制出一批SiC器件樣品,如SiC功率MOSFET,定額為:750V/15mA,RDC(on)=66mΩ;1998年研制 出耐壓達1400V,通態電阻為311mΩ的SiC功率MOSFET。其他又如SiC晶閘管,950V/16A,通態壓降為3.67V;1999年研制出耐壓達790V,通態壓 降為1.5V,電流密度為75A/cm2的SiC IGBT。

          可以預見,碳化硅將是21世紀最可能成為應用成功的新型功率的材料。



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