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        征服LED之不得不看的重要概念

        作者: 時間:2011-08-25 來源:網絡 收藏
        P>  半導體元件內部的溫度。在中是指芯片內發光層(pn結間設置多重量子阱構造的位置)的溫度。芯片的發光層在點亮時溫度會上升。一般情況下,接合溫度越高,發光效率就越低。隨著輸入電流的增加盡管光通量會提高,但發熱量會變大。由此會出現發光層的溫度(接合溫度)升高而使發光效率降低,功耗增加,從而使接合溫度進一步上升的惡性循環。通過降低LED芯片封裝及該封裝安裝底板的熱阻,使芯片產生的熱量得以散發,避免接合溫度上升等改進,可以提高亮度。

          接合溫度為:熱阻×輸入電力+環境溫度,因此如果提高接合溫度的最大額定值,即使環境溫度非常高,LED也能正常工作。例如,在白色LED中,有的LED芯片品種的可容許接合溫度最高達到+185℃。接合溫度可因LED的點亮方式而大為不同。例如,脈沖驅動(向LED輸入斷續電流驅動,間歇點亮)LED時,接合溫度就不容易上升,而連續驅動(向LED輸入穩定電流驅動,連續點亮)LED,接合溫度就容易上升。

        征服LED之不得不看的重要概念
        芯片蓄熱的話光強就會降低

          白色LED配備的LED芯片的發光層在點燈過程中溫度會上升。一般情況下,如果被稱為接合溫度的發光層部分的溫度上升,發光效率就會降低,即使輸入電力也不亮。通過降低LED芯片封裝和封裝底板的熱阻,散發芯片上產生的熱量,設法使接合溫度不上升,能夠使發光更亮

          如果使用提高了接合溫度最大額定值的LED芯片,在安裝使用時能夠獲得很多優點。例如,由于增加了輸入電力,可提高輸出功率。還可以縮小底板的散熱片等。

        基片(substrate)

          LED和半導體激光器等的發光部分的半導體層,是在基片上生長結晶而成。采用的基片根據LED的發光波長不同而區分使用。如果是藍色LED和白色LED等GaN類半導體材料的LED芯片,則使用藍寶石、SiC和Si等作為基片,如果是紅色LED等采用AlInGaP類材料的LED芯片,則使用GaAs等作為基片。

          因LED發光波長而使用不同基片的原因是為了選擇與LED發光部分——半導體結晶的晶格常數盡量接近的晶格常數的廉價基片材料。這樣做晶格常數的差距(晶格失配)就會縮小,在半導體層中阻礙發光的結晶缺陷的可能性就會減少。而且能降低LED芯片的單價。另外,藍紫色半導體激光器等電流密度和光輸出密度較大的元件,則采用昂貴的GaN基片。GaN基片還用于部分藍色LED。

        征服LED之不得不看的重要概念
        底板剝離方法示例

          歐司朗的做法是在藍寶石底板上形成GaN類結晶層,粘帖金屬反射膜,然后再粘帖作為支持底板的Ge晶圓。之后,利用激光照射溶解掉GaN類結晶層與藍寶石底板的界面部分,剝離藍寶石底板。

          近年來,為了增加從LED芯片中提取光線,在基片上形成半導體結晶層后,將基片張貼到其他基片上的技術已經實用化。在粘貼到其他基片上時,與半導體結晶層之間的界面上設置了光的反射層。反射層具有反射發光層朝向基片側的光線,將其提取到LED表面側的效果。除了已用于紅色LED外,最近藍色LED等GaN類半導體LED芯片也擴大了采用。采用GaN類半導體材料的LED還有不張貼基片,使之保持剝離狀態的方法。

          這些方法在外形尺寸較大的LED芯片上較為有效。大尺寸芯片存在著芯片內發生的光射出芯片外時的光徑變長,導致光在這一過程中發生衰減的問題。該問題可通過張貼基片解決。

        外延生長(epitaxial growth)

          在基片上生長結晶軸相互一致的結晶層的技術。用于制作沒有雜質和缺陷的結晶層。包括在基片上與氣體發生反應以積累結晶層的VPE(氣相生長)法、以及與溶液相互接觸以生長結晶相的LPE(液相生長)法等。

          藍色LED、白色LED以及藍紫色半導體激光器等GaN類發光元件一般采用VPE法之一的MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法進行生產。MOCVD采用有機金屬氣體等作為原料。藍色LED在藍寶石基片和SiC基片上,藍紫色半導體激光器在GaN基片上使用MOCVD裝置使得GaN類半導體層形成外延生長。

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        “404專利”的內容

          中村修二提出專利權歸屬問題而進行訴訟的“404專利”,是將原料氣體封入藍寶石底板表面附近的方式之一。在生長GaN類半導體膜的底板(藍寶石底板等)表面沿水平方向通入原料氣體,同時為了將原料氣體固定在底板表面,沿垂直方向向底板表面通入非活性氣體。

          中村修二就其在日亞化學工業工作時所發明專利的“正當價格”與日亞化學工業展開的訴訟中所涉及的GaN類發光元件專利(專利第2628404號,以下稱404專利)就是外延生長GaN類半導體層技術的相關專利。404專利是與在藍寶石基片表面附近封入原料氣體的技術。其特點是,在生長GaN類半導體膜的基片(藍寶石基片等)表面沿水平方向通入原料氣體,同時為了將原料氣體固定在基片表面,還沿垂直方向向基片表面通入非活性氣體。


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