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        聚焦鏡、全反鏡、輸出鏡

        作者: 時間:2011-03-16 來源:網絡 收藏

          原理:是激光打標機的重要配件之一,目的是將激光在整個工件標刻平面形成聚焦。其性能指標主要有以下幾條:
          1.掃描范圍。
          鏡頭能掃描到的面積越大,當然越受使用者的歡迎。但是如果一味的增加掃描面積,會帶來很多的問題。如光點變粗,失真加大等等。
          2.焦距(跟工作距離有一定關系,但是不等于工作距離)。
          a.掃描范圍跟場鏡焦距成正比——掃描范圍的加大,必然導致工作距離的加大。工作距離的加長,必然導致激光能量的損耗。
          b.聚焦后的光斑直徑跟焦距成正比。這意味著當掃描面積達到一定的程度后,得到的光點直徑很大,也就是說聚得不夠細,激光的功率密度下降非常快(功率密度跟光斑直徑的2次方成反比),不利于加工。
          c.由于F-Theta場鏡是利用的y’=f*θ的關系來工作的,而實際的θ和tgθ的值還是有區別的。而且隨著焦距f的加大,失真程度將越來越大。
          3.工作波長。
          目前市場上使用的多半是1064nm和10600nm兩種。但是隨著將后來激光器的發展,532nm和355nm及266nm的場鏡也會有相應的應用。

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