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        什么是霍爾效應

        作者: 時間:2011-08-15 來源:網絡 收藏

        美國物理學家霍爾(Hall,Edwin Herbert,1855-1938)于1879年在實驗中發現,當電流垂直于外磁場通過導體時,在導體的垂直于磁場和電流方向的兩個端面之間會出現電勢差,這一現象便是霍爾效應。這個電勢差也被叫做霍爾電勢差。

        霍爾效應是磁電效應的一種,這一現象是霍爾(A.H.Hall,1855—1938)于1879年在研究金屬的導電機構時發現的。后來發現半導體、導電流體等也有這種效應,而半導體的霍爾效應比金屬強得多,利用這現象制成的各種霍爾元件,廣泛地應用于工業自動化技術、檢測技術及信息處理等方面。霍爾效應是研究半導體材料性能的基本方法。通過霍爾效應實驗測定的霍爾系數,能夠判斷半導體材料的導電類型、載流子濃度及載流子遷移率等重要參數。流體中的霍爾效應是研究“磁流體發電”的理論基礎。

        1. 霍爾效應
        將一塊半導體或導體材料,沿Z方向加以磁場B ,沿X方向通以工作電流I,則在Y方向產生出電動勢Vh,如圖1所示,這現象稱為霍爾效應。Vh稱為霍爾電壓。

        圖1 霍爾效應原理圖

        實驗表明,在磁場不太強時,電位差Vh與電流強度I和磁感應強度B成正比,與板的厚度d成反比,即

        式(1)中Rh稱為霍爾系數,式(2)中Kh稱為霍爾元件的靈敏度,單位為mv / (mA·T)。產生霍爾效應的原因是形成電流的作定向運動的帶電粒子即載流子(N型半導體中的載流子是帶負電荷的電子,P型半導體中的載流子是帶正電荷的空穴)在磁場中所受到的洛侖茲力作用而產生的。

        如圖1(a)所示,一快長為l、寬為b、厚為d的N型單晶薄片,置于沿Z軸方向的磁場 中,在X軸方向通以電流I,則其中的載流子——電子所受到的洛侖茲力為

        式中V為電子的漂移運動速度,其方向沿X軸的負方向。e為電子的電荷量。Fm指向Y軸的負方向。自由電子受力偏轉的結果,向A側面積聚,同時在B側面上出現同數量的正電荷,在兩側面間形成一個沿Y軸負方向上的橫向電場Eh(即霍爾電場),使運動電子受到一個沿Y軸正方向的電場力Fe,A、B面之間的電位差為Vh(即霍爾電壓),則 (4)

        將阻礙電荷的積聚,最后達穩定狀態時有

        式中

        稱為霍爾元件的靈敏度,一般地說, Kh愈大愈好,以便獲得較大的霍爾電壓Vh 。因 和載流子濃度n成反比,而半導體的載流子濃度遠比金屬的載流子濃度小,所以采用半導體材料作霍爾元件靈敏度較高。又因Kh和樣品厚度d成反比,所以霍爾片都切得很薄,一般d≈0.2mm。

        上面討論的是N型半導體樣品產生的霍爾效應,B側面電位比A側面高;對于P型半導體樣品,由于形成電流的載流子是帶正電荷的空穴,與N型半導體的情況相反,A側面積累正電荷,B側面積累負電荷,如圖1(b)所示,此時,A側面電位比B側面高。由此可知,根據A、B兩端電位的高低,就可以判斷半導體材料的導電類型是P型還是N型。
        由(7)式可知,如果霍爾元件的靈敏度Rh已知,測得了控制電流I和產生的霍爾電壓Vh ,則可測定霍爾元件所在處的磁感應強度為

        高斯計就是利用霍爾效應來測定磁感應強度B值的儀器。它是選定霍爾元件,即Kh已確定,保持控制電流I不變,則霍爾電壓Vh與被測磁感應強度B成正比。如按照霍爾電壓的大小,預先在儀器面板上標定出高斯刻度,則使用時由指針示值就可直接讀出磁感應強度B值。
        由(7)式知

        因此將待測的厚度為d的半導體樣品,放在均勻磁場中,通以控制電流I,測出霍爾電壓 ,再用高斯計測出磁感應強度B值,就可測定樣品的霍爾系數 。又因 (或 ),故可以通過測定霍爾系數來確定半導體材料的載流子濃度n(或p)(n和p分別為電子濃度和空穴濃度)。

        嚴格地說,在半導體中載流子的漂移運動速度并不完全相同,考慮到載流子速度的統計分布,并認為多數載流子的濃度與遷移率之積遠大于少數載流子的濃度與遷移率之積,可得半導體霍爾系數的公式中還應引入一個霍爾因子Rh,即普通物理實驗中常用N型Si、N型Ge、InSb和InAs等半導體材料的霍爾元件在室溫下測量,霍爾因子,所以



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