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        晶體生長控制中的高精度控溫系統

        作者: 時間:2011-11-30 來源:網絡 收藏
        介紹生長的組成,微弱溫差信號的接 口調理方法及智能控制器的分級控制方式。系統控溫范圍(25~75)℃,控溫精度達0. 01℃,分辨率0.001℃,投入使用多年來,工作穩定可靠。
          關鍵詞:生長;控溫;信號調理
        High Precision Temperature Control System in the Crystal Growth Control
        YANG Qi, YANG Xiaoling
        (Physics and Information Engineering College, Fuzhou University,
        Fuzh ou 350002, China)
          Keywords: crystal growth; thermo?control; signal processing
        1系統硬件組成
          生長如圖1所示,溫度?變送器把檢測到的微弱溫差信號放大后經A/D轉 換 ,由單片機系統進行數據采集和分析處理,一方面由LED顯示現場采集溫度值,另一方面把 該采集信號與鍵盤設置的溫度值進行比較,提取溫差量及溫差變化量,作為智能控制的輸入 參數。輸出量控制晶閘管驅動電路,進一步控制加熱棒的功率,達到控溫目的。由于晶體生 長是在旋轉運動下進行的,因此,整個載晶裝置由一可逆電機控制其旋轉過程。此外系統還 設計了微打接口及溫度越限聲光報警電路。
        1.1溫度變送器
          系統選用Pt100作為溫度傳感器。它的溫度系數α=0.00385/℃,對于0.001℃ 的微小溫差變化,Pt100的電阻值變化約為0.385mΩ,如此小的電阻變化量經電橋轉 換后,電信號最大也只能達到0.5~1μV,因此處理微伏級弱信號的接口調理方法, 包括不平衡直流電橋,低截頻模擬濾波器,低噪聲、低漂移、高靈敏度直流放大器及 接地體等環節的設計。

          由圖2電路可知:
          
          ?
        當電橋平衡時有:R1R4=R2R3,RT=R1+ΔR 。代入上式并整理得:
          ?
          對于具體溫度測控系統,R2、R3、R4均為已知,VREF 為TL431的內部基準電壓,是一恒值,因此電橋的輸出電壓ΔV與ΔR成線性關系,即電橋輸出實現線性化。電阻R2、R3、R4均選溫度系數小且同方向變化的線繞精密電阻,這樣電橋輸出信號達到高穩定度目的。
          選擇AD524作為溫度變送器的放大電路,其增益可由外接電阻RG調整,RG的溫度效應將 引起AD524放大倍數漂移或精密度等級下降,在高精度中,必須對增益電阻的溫度 效應進行補償,具體設計方法見文獻[2]。
          AD524放大的輸出信號經其后接的二階低通濾波器濾除電源干擾,RC濾波器的通帶寬度設計 為1.4Hz,它適用于緩慢變化溫度信號的帶通要求,而對于高頻干擾信號,低通 濾波 器具有良好的抗干擾能力。此外,輸入信號采用雙絞屏蔽線連接,以降低外界電磁干擾,放 大器的輸入端采用緊密的對稱布局,降低接點熱偶效應的影響,提高系統的穩定性。
        1.2單片機系統及其接口
          溫度變送電路的輸出信號,經16位A/D轉換器AD976轉換和8031構成的智能控制系統分析處理 后,由LED顯示現場溫度值,同時輸出信號控制晶閘管電路工作情況,從而控制槽中加熱棒 的工作,達到控溫的目的。晶閘管采用過零觸發方式,輸出功率采用PWM脈寬調節,避免負 載電流產生瞬態浪涌過程,減少射頻干擾及延長晶閘管的使用壽命。
          為使晶體生長均勻,要求載晶裝置處于旋轉運動中,即要求其按正轉—停—反轉—停—正轉 規律不斷運行,這一過程由圖3的可逆小電機及其控制電路實現,系統要求電機轉速較慢, 扭矩有較大的動力,因此選用10瓦ND-30型可逆電機,其中C1為電機起動電容,T1、T 2、R、C2、RW組成雙向晶閘管電機調速電路,當8031使P1端輸出低電平、P2端輸出高 電平時,固態繼電器SSR1閉合,電機正轉;當P1端輸出高電平、P2端輸出低電平時,SSR2閉 合,電機反轉,其轉速通過調節R?W控制雙向晶閘管T?1的導通角來實現;當P1端及P2端均 輸出高電平時,可逆電機停止轉動。?
          系統的軟件包括兩大部分:鍵盤管理系統和智能控制器。鍵盤管理系統提供的功能包括數據 設定、現場溫度顯示、時間顯示、重新啟動、停止控制、數據打印等,提供一個人機交互的 簡單界面。
          智能控制系統實現現場數據采集,智能控制算法以及受控過程的輸出控制等,其原理框圖如 圖4所示。人工晶體生長環境存在受控環境變化大,工藝曲線不確實,真實信號難采集等特 點,因此采用二級智能控制策略:一級為主控制級,也稱內環控制,一級為參數校正控制級 ,也稱外環控制。綜合數據庫為內環和外環所共享,存貯了受控對象的先驗知識、所要求的 品質指標、控制參數的先驗值及系統運行過程的有關動態值等,它為內環和外環提供有效的 控制數據。?

          內環控制過程同時受到外環監測,當環境相對穩定,主控制級控制效果較好時,參數校正級 就無需調整主控制級的控制參數,一旦受控過程或用戶設定參數變化較大時,主控制級的控 制指標達不到用戶要求時,參數校正級就要投入調整過程,通過調整主控制級的控制參數來 改善主控制級的性能。
          參數校正級的核心也是一個智能控制器,其輸入參數是受控現場數據、用戶設定、內環控制 情況等,受控對象是主控制級的控制參數,其變化范圍較小。輸入參數經數據規范化處理后 ,作為參數校正推理系統的推理條件,根據參數校正的相應規則,對綜合數據庫中主控制級 的控制參數進行調整,這個參數調整過程也可多次進行,直到主控制級的控制效果得到改善 ,參數校正才停止對主控制級控制參數的調整。參數校正控制采用的規則是IFTHEN 的形式,規則集也是按照“分類分層”的原理進行構造,其推理系統核心也 是啟發式子樹分離算法。推理系統的輸出決定內環控制參數的調整情況,從而提高主控制級 的控制質量。系統設計主控制級的控制參數可動態調整(由參數校正級來完成),而 參數校正 級的控制參數不能動態調整。?
          本控溫系統經多家單位投入使用,多年運行表明控溫精度均達0.01℃,工作穩定可靠 。表1是控溫過程的部分測試數據。
          采用本控溫系統,不僅可提高控溫質量,而且可以 實現溫度自動報警,參數制表,數據打印 ,資料存檔等功能,有效地提高了晶體生產的技術及管理水平.


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