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        D類音頻功率放大器設計基礎

        作者: 時間:2012-06-25 來源:網絡 收藏
        tyle="PADDING-RIGHT: 0px; PADDING-LEFT: 0px; PADDING-BOTTOM: 0px; MARGIN: 20px 0px 0px; WORD-SPACING: 0px; FONT: 14px/25px 宋體, arial; TEXT-TRANSFORM: none; COLOR: rgb(0,0,0); TEXT-INDENT: 0px; PADDING-TOP: 0px; WHITE-SPACE: normal; LETTER-SPACING: normal; BACKGROUND-COLOR: rgb(255,255,255); orphans: 2; widows: 2; -webkit-text-size-adjust: auto; -webkit-text-stroke-width: 0px">  在D功放設計中的EMI(電磁輻射)是很麻煩的,像在其他開關應用中一樣。EMI的主要來源之一是來自從高到低流動的MOSFET二極管的反向恢復電荷,和電流直通很相象。在嵌入到阻止直通電流的死區過程中,在輸出LPF中的電感電流打開體二極管。在下一個階段中,當另外一端的MOSFET在死區未打開時,體晶體管保持導通狀態,除非儲存的大量少數載波被完全復合。這個反向的恢復電流趨向于形成一個很尖的形狀,和由于PCB板和封裝雜散電感因起步希望的震蕩。因此,PCB布線設計對減小EMI和系統可靠性至關重要的。

          13、功放中MOSFET選擇的其他考慮

          *選擇合適的封裝和結構

          *功放的THD、EMI和效率,還受FET的體二極管影響。縮短體二極管恢復時間(工R的并聯肖特基二級管的FET);降低反向恢復電流和電荷,能改善THD;EMI和效率。

          *FET結殼熱阻要盡可能小,以保證結溫低于限制。

          *保證較好可靠性和低的成本條件下,工作在最大結溫。用絕緣包封的器件是直接安裝還是用裸底板結構墊絕緣材料,依賴于它的成本和尺寸。

          14、功放參考設計見圖6所示

        D類音頻功率放大器設計基礎

          *拓撲:半橋

          *選用IR2011S(柵極驅動IC,最高工作電壓200V,Io+/-為1.0A/1.0A,Vout為10-20V,ton/off為8060ns,延時匹配時間為20ns);IRFB23N15D (MOSFET功率管ID=23A,R DS=90mΩ,Qg=37nC Bv=150V To-220封裝)

          *開關頻率:400KHz(可調)

          *額定輸出:200W+200W/4歐

          *THD:0.03%-1mhz半功率

          *頻率響應:5Hz-40KHz(-3dB)

          *電源:~220v±50V

          *尺寸:4.0“×5.5”

          15、結論

          如果我們在選擇器件時很謹慎,并且考慮到精細的設計布線,因為雜散參數有很大的影響,那么目前高效功放可以提供和傳統的AB類功放類似的性能。

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