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        中國在光子學材料領域獲突破 可用于激光防護

        作者: 時間:2013-12-19 來源:網絡 收藏

        中科院上海光機所研究員王俊與張龍、趙全忠以及上海光機所中科院外國專家特聘研究員WernerBlau等人合作,首次報道了二維層狀MoS2納米材料在近紅外波段的優異超快飽和吸收性能。相關研究成果日前發表于《美國化學學會—納米》。

          據介紹,過渡金屬硫化物二維納米材料,如MoS2、MoSe2、MoTe2、WS2等受到了學界的高度重視,許多獨特的光電性質在該材料由體材料降解到二維單分子層后體現出來,該類材料已成為新一代高性能納米光電器件國際前沿研究的核心材料之一。然而,針對這類寬禁帶直接帶隙半導體二維納米片的超快非線性光學性質及相應光子器件的研究還鮮有報道。

          上述研究小組利用液相剝離技術成功制備出高品質MoS2納米片分散液。透射電子顯微鏡、可見—紅外吸收光譜、拉曼光譜、原子力顯微鏡研究表明,分散液中存在大量高品質MoS2納米片層。超快非線性光學實驗證實MoS2納米片對100fs、800nm近紅外激光脈沖具有比石墨烯更加優異的飽和吸收響應。

          業內專家表示,這些結果預示著以MoS2為代表的過渡金屬硫化物二維納米半導體材料在超短脈沖鎖模器、光限幅器以及光開關等器件開發方面的巨大潛力。



        關鍵詞: 光子學 激光防護

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