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        埃賽力達推出適用于340 nm-360 nm波長范圍的LINOS UV F-Theta Ronar低釋氣透鏡

        —— 其優化設計可最大限度地減少激光材料加工應用中掃描區域內的釋氣和光斑尺寸變化
        作者: 時間:2025-02-11 來源:EEPW 收藏

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        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202502/466844.htm

        科技有限公司(Excelitas Technologies?)是一家創新的致力于改變人們生活的先進技術供應商,為生命科學、先進工業、下一代半導體、航空航天和國防終端領域的全球知名品牌提供服務。該公司近期推出了適用于252 mm中等焦距范圍的LINOS? UV F-Theta Ronar。新款LINOS F-Theta鏡頭專為配合 LINOS UV 擴束鏡而設計,與傳統產品相比具有更優異的耐用性,可支持激光材料加工中所需的更高的UV脈沖能量和更短的激光脈沖,可廣泛用于半導體、晶圓加工、電子顯示器和太陽能電池制造等領域。

        該透鏡通過顯著減少輔助材料和潔凈裝配工藝,實現了優異的耐用性。其獨特的UV設計采用了高品質熔融石英透鏡和高端寬帶透鏡鍍膜,不僅確保了出色的光學性能,還有效減少了背向反射。其優化的包裝和防塵材料進一步提升了鏡頭的低釋氣性能。此外,還優化了生產、鍍膜、物流、倉儲和裝配流程,從源頭到成品全程降低污染風險,確保組件在整個工作流程中的高質量。

        主要規格和特性:

        ●   減少釋氣:采用先進的設計和生產工藝,實現優異的低釋氣性能

        ●   優化設計:適用于340 nm和 360 nm紫外波長,采用高端寬帶鍍膜

        ●   精確的掃描性能: 掃描場內的光斑尺寸變化較小,在10 mm掃描光圈下的掃描場范圍為 142 mm2 x 142mm2米,15 mm掃描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm

        ●   改進的處理能力:可應對高功率和短脈沖應用需求

        ●   長期光學穩定性:采用先進技術制造,確保鏡頭的耐用性和可靠性

        ●   優化背向反射:有效減少掃描儀鏡面損傷,并延長使用壽命

        ●   M85x1機械接口:便于輕松集成到各種系統中

        “憑借其創新的減少釋氣設計和掃描場內光斑尺寸變化,LINOS UV F-Theta Ronar重新定義了激光材料加工的光學性能和可靠性。我們很高興將這一解決方案納入LINOS F-Theta-Ronar產品系列中。”埃賽力達產品經理Matthias Koppitz表示



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