I-V測量技術的發展

與直流電流-電壓（I-V）和電容-電壓（C-V）測量一樣，超快I-V測量[1]能力對于特征分析實驗室中所有負責開發新材料、器件[2]或工藝的所有技術人員正變得越來越必要。進行超快I-V測量需要產生高速脈沖波形[3]并在待測器件發生松弛之前測量產生的信號。

高速I-V測試的早期實現方式（通常稱之為脈沖式I-V測試系統）是針對諸如高k介質和絕緣體上硅（SOI）恒溫測試[4]，或產生閃存器件特征分析所必需的短脈沖之類的應用而開發的。脈沖式I-V測量技術是十分必要的，這是因為當采用傳統直流I-V測試方法時，它們的絕緣襯底使得SOI器件保留了測試信號自身產生的熱量，使測得的特征參數發生偏移；而采用脈沖式測試信號能夠最大限度減少這種影響。

過去，高速脈沖/測量測試系統通常由脈沖發生器、多通道示波器[5]、互連硬件和負責集成并控制儀器的軟件構成。不幸的是，這些系統受延遲的影響，信號源和測量功能之間的協同非常復雜。根據儀器的質量及其集成的情況，這種方式在產生的脈沖寬度及其占空比方面還有局限性。即時不管這些局限性，這些早期脈沖式I-V測試系統的用戶已開始尋求將其用于各種其它特征分析任務，包括非易失性存儲器測試、超快NBTI[6]可靠性測試和很多其它應用。但是，由于這些系統動態量程有限，它們仍然保留了一些特殊的技術。