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        2006年全球半導體新工廠投資創歷史最高紀錄

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        作者: 時間:2006-11-09 來源: 收藏
          據市場調研機構Strategic Marketing Associates 公布最新調查數據稱,今年行業構建創歷史。這些明年將開始大量制造產品。 

          調研機構總裁 George Burns表示,今年年底前,行業將有36個開始構建,這些新工廠的至少將達到590億美元。在這36個新的半導體工廠中,計劃有25個工廠將制造300毫米晶圓。 

          總裁在一份聲明中表示,構建新工廠的數量正在增長,200毫米晶圓和300毫米晶圓工廠的將破歷史。在全球590億美元新工廠的投資中,日本、中國和中國臺灣的投資占到440億美元。閃存和DRAM儲存芯片工廠的投資在投資總數中將占64%。 

          調研機構稱,今年全球新的代工工廠的投資也出現了引人注目的增長,從去年的38億美元增長到今年的110億美元,臺灣的臺積電、中國的中芯國際和華虹電子公司將開始構建300毫米晶圓工廠。明年新工廠的產量將占到12%

        。全球閃存芯片和DRAM儲存芯片的產量將分別增長40%和53%,自2001年后到明年年底之前,全球DRAM制造商每月的產量增加了200萬個晶圓。 
          基于許多新工廠的投資水平,調研機構預期今年行業的資本投資將增長15%超過540億美元。在全部資本支出中,亞太地區將占48%。總裁說:“未來五年內,亞太地區的半導體制造商將是全球投資最高的企業。”



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