NI PXI矢量網絡分析儀助半導體移動設備制造商降低測試成本

　　美國國家儀器公司(National Instruments, 簡稱 NI)近日發布了NI NI PXIe-5632 VNA，它經進一步優化，可幫助工程師滿足日益復雜的射頻測試要求，而其成本、尺寸和使用所需時間僅是傳統堆疊式解決方案的極小一部分。 新的PXIe VNA基于創新型的雙源架構，頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz，擁有獨立調整的源代碼和源接入循環，可適用于眾多不同的測量應用。　　

　　“NI在射頻和微波儀器上持續大力投入，將PXI的應用領域擴大至高端應用。”NI射頻研究和開發副總裁Jin Bains表示， “NI PXIe-5632矢量網絡分析儀功能豐富，可顯著降低網絡測量成本，尤其是針對那些需要高度精確、快速和小封裝測量的大批量自動化測試的應用。”

　　產品特征

• 雙端口，3槽PXI Express矢量網絡分析儀，頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz 。
• 功率范圍較寬，為-30dBm到+15 dBm，調節步長為0.01dB，用于測量有源設備的壓縮和S-參數。
• 帶有源接入循環的雙源架構，可實現脈沖S參數測量和擴展源功率范圍。
• 頻偏功能使用獨立調整的源代碼，實現對頻率轉換器件和熱S-參數的測量。
• 通過NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行業領先的編程接口，可簡化編程并加快測試開發速度，同時保證射頻測量質量。