下一代的MOCVD技術(shù)的趨勢是什么？

　　今年，中國LED企業(yè)在上游芯片領(lǐng)域動(dòng)作層出不窮，紛紛啟動(dòng)了建廠、擴(kuò)廠計(jì)劃。據(jù)悉，中國購買MOCVD的訂單已經(jīng)排到三年之后。業(yè)內(nèi)專家認(rèn)為，隨著未來大量的MOCVD投產(chǎn)，芯片價(jià)格會(huì)下降，這對(duì)產(chǎn)業(yè)是利好消息，但是哪個(gè)企業(yè)最終搶占商機(jī)，人才是最關(guān)鍵的因素。買來的MOCVD質(zhì)量如何?型號(hào)是否先進(jìn)?下一代的MOCVD技術(shù)的趨勢是什么?這些都是企業(yè)應(yīng)該思考的問題，也能從Michael Heuken的報(bào)告中得到很多啟示。

　　Michael Heuken首先對(duì)未來的半導(dǎo)體照明市場進(jìn)行了預(yù)測，他認(rèn)為從2009年到2014年，半導(dǎo)體照明市場將會(huì)保持年增長率31%的速度，這將大大推動(dòng)半導(dǎo)體照明技術(shù)的發(fā)展。大尺寸襯底是未來發(fā)展趨勢，因?yàn)樗蟽r(jià)格降低、提高產(chǎn)能、高程度自動(dòng)化及最大程度利用硅襯底的需求。目前2英寸和4英寸還是市場主流，但是有些公司已經(jīng)開始考慮6英寸，甚至開始著手做8英寸的設(shè)計(jì)。據(jù)Michael Heuken介紹，AixtrON公司的Crius 200mm/300mm MOCVD系統(tǒng)能夠在大尺寸的襯底上外延，并保持良好的厚度和波長均勻性。

　　Michael Heuken認(rèn)為溫度管理非常重要，他說，“對(duì)外延技術(shù)而言有三個(gè)非常關(guān)鍵的指標(biāo)，第一個(gè)是溫度，第二個(gè)是溫度，第三個(gè)還是溫度”，溫度管理可以幫助加強(qiáng)統(tǒng)一性，也可以對(duì)比較大直徑的晶片做更好的控制。

　　未來可能和LED技術(shù)融合的技術(shù)包括Si基技術(shù)和GaN量子線技術(shù)。

　　此外，Michael Heuken還介紹了Aixtron新開發(fā)的G5 HT設(shè)備，它能夠滿足56x2 inch / 14x4 inch / 8x6 inch / 5x8 inch的外延需求。G5 HT在600 mbar以上的高壓下能以極高的速率完成高質(zhì)量的氮化鎵沉淀，相比G4 HT產(chǎn)能可提升33%。